Litografía (electrónica)

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La litografía es un proceso de fabricación de dispositivos semiconductores , que incluye todos los procesos que dan forma o alteran formas preexistentes en el material depositado. Por ejemplo, en la litografía convencional, la oblea se recubre mediante recubrimiento por rotación con un producto químico sensible a la luz llamado fotorresistente . La fotorresistencia se expone mediante máquinas adecuadas, denominadas alineadores de máscara o steppers, que alinean las máscaras (generalmente de cuarzo), enfocan la radiación y exponen la fotorresistencia a radiación ultravioleta de una longitud de onda adecuada. La región no expuesta se elimina de la solución de desarrollo. Después del grabado y otros posibles procesos, el fotorresistente restante se elimina en seco mediante incineración en plasma (de la incineración del plasma inglés) o más simplemente disolviéndolo en un disolvente adecuado.

Proceso de manufactura

Esta sección describe las principales fases de un proceso litográfico.

Deposición resistir

Exposición

Desarrollo

Deposición de metales

Eliminación de resistencia

Hay dos métodos principales para eliminar el resist "grabado en húmedo" y "grabado en seco", el primero utiliza un baño químico, por lo tanto, se debe elegir un reactivo adecuado para el tipo de material a eliminar, mientras que en el segundo el resist es físicamente extraído de un bombardeo de iones, colocando el dispositivo dentro de un plasma , luego existen métodos mixtos en los que los iones en colisión se unen químicamente al carrete.

Aguafuerte húmeda Aguafuerte seca
muy selectivo fácil de iniciar y detener
no daña el sustrato poco sensible a las variaciones de temperatura
económico repetibilidad fácil
lento rápido
los reactivos son potencialmente tóxicos o dañinos para el medio ambiente puede ser isotrópico o anisotrópico
isotrópico (excepto en casos especiales) costoso

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